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真空镀膜设备的镀膜工艺有很多。简单来说，就是利用蒸发、溅射等方法，在真空环境下发射薄膜颗粒，将其沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体、塑料件等物体上，形成客户需要的各种涂层。在日常生活中较为常见的技术有真空蒸发、溅射镀膜、离子镀膜等
真空蒸发镀膜:原理是用蒸发器在真空条件下加热薄膜材料，使其汽化或升华。蒸发的粒子流直接指向基材，在基材上沉积固体薄膜。蒸发又可分为电子束蒸发、电阻蒸发、感应蒸发等
溅射镀膜:在真空条件下，对阴极施加高压电激发辉光放电，带正电的氩离子与阴极靶材碰撞，使其射出薄膜颗粒，沉积在基材上，形成薄膜层。
离子涂层:离子涂层通常是指在涂层过程中产生大量离子的涂层方法。在膜的形成过程中，基底不断受到高能粒子的轰击，膜层的强度和附着力非常强。当离子镀用于生产高精度膜层时，可以过滤掉大颗粒离子，从而获得高结构、高密度的膜层。
日常生活中较常用的镀膜技术就是这三种真空镀膜设备。具体选择取决于要涂覆的膜层类型、要涂覆的工件类型等。
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